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氣隙對電容和擊穿場強的影響

2018-01-24 11:04:48 大云網(wǎng)  點擊量: 評論 (0)
摘要:電容和擊穿場強是電容器的兩個重要電性能指標(biāo)。以平板電容器和圓柱形電容器為例,分析了電介質(zhì)中存在的氣隙對電容和擊穿場強的影響,

       摘要:電容和擊穿場強是電容器的兩個重要電性能指標(biāo)。以平板電容器和圓柱形電容器為例,分析了電介質(zhì)中存在的氣隙對電容和擊穿場強的影響,結(jié)果表明氣隙會導(dǎo)致電容和擊穿場強降低。


  關(guān)鍵詞:電容器;電容;擊穿場強;氣隙;電介質(zhì)
  
  
  1引言


  電容器是應(yīng)用于現(xiàn)代電工技術(shù)和電子技術(shù)中的重要元件,起著隔直、濾波、耦合、調(diào)諧、能量存儲等作用。電容和擊穿場強(或擊穿電壓)是電容器的兩個重要電氣性能指標(biāo),電容表征了電容器容納電荷的本領(lǐng),擊穿場強則反映了組成電容器的重要材料——電介質(zhì)在電場作用下保持正常性能的極限能力。一般來說,電容與電容器的結(jié)構(gòu)和電介質(zhì)有關(guān),擊穿場強主要由電介質(zhì)決定,而實際中,即使是單一絕緣結(jié)構(gòu)的電容器,由于材料的不均勻性(比如含有雜質(zhì)或空氣間隙)都會對電容和擊穿場強有影響。本文以廣泛應(yīng)用的平板電容器和圓柱形電容器為例,分析了單一絕緣介質(zhì)內(nèi)部的空氣間隙對電容和擊穿場強的影響。


  2氣隙對平行板電容器的影響


  內(nèi)含氣隙的單一電介質(zhì)構(gòu)成的平行板電容器見圖1。設(shè)平行板電容器極板面積為S,距離為d,極板間有相對電容率為εr的電介質(zhì),球形氣隙的半徑為r0,且r0<  

2.1電容
  當(dāng)電介質(zhì)內(nèi)有一半徑為r0的球形氣隙時,設(shè)該氣隙的等效電容為C0,其周圍介質(zhì)的等效電容分別為C1、C2、C3、C4,如圖1所示,則由電容器的串聯(lián)和并聯(lián)知識[1]可知,該平板電容器的電容為:
   (1)
  若電介質(zhì)為均勻分布,內(nèi)部無氣隙時,平板電容器的電容應(yīng)為[1]:


  (2)
  其中 為無球形氣隙時,圖1中C0、C3和C4區(qū)域的電容。


  由電容器的串聯(lián)定律可知:
   (3)
  由(1)、(2)和(3)式可得:C < C′(4)


  (4)式說明當(dāng)電介質(zhì)中存在氣隙時,電容器的電容將減小,即電容器容納電荷的本領(lǐng)下降。由推導(dǎo)過程與氣隙形狀無關(guān)可知,該結(jié)論并不限于球形氣隙,可推廣至其他形狀氣隙和有多個氣隙存在的情況。


  2.2 擊穿場強
  設(shè)平板電容器兩極電壓為U,且平行板內(nèi)無氣隙時,忽略邊緣效應(yīng),電介質(zhì)中的電場可視為勻強電場,電場強度為E0=U/d。當(dāng)電容器正常工作時,該場強應(yīng)小于電介質(zhì)的擊穿場強Eb(Eb=Ud /d,Ud為擊穿電壓),即E0 < Eb。


  若電介質(zhì)中存在如前所述的球形氣隙時(r0<  

(5)
  由于εr >1,則E > E0,即氣隙內(nèi)部的場強大于電介質(zhì)中的場強;當(dāng)εr >>1時,E=1.5E0。由于空氣的擊穿場強小于介質(zhì)的擊穿場強,隨著電容器電壓升高,E0和E 都在增大,當(dāng)E 增大到超過空氣的擊穿場強時,空氣首先被電離擊穿,形成放電通道,電壓將隨之落到氣隙兩端的電介質(zhì)上。如果電介質(zhì)內(nèi)存在設(shè)計中并沒有考慮到的多個或大量氣隙時,當(dāng)氣隙被擊穿后,電場強度有可能超過電介質(zhì)的擊穿場強Eb,造成介質(zhì)擊穿,電容器損壞甚至設(shè)備損壞,而此時可能尚未達到額定的擊穿電壓Ud。因此,在電容器的設(shè)計時應(yīng)考慮到氣隙對擊穿場強的影響。

 

 3氣隙對圓柱形電容器的影響
  由相對電容率為εr的單一電介質(zhì)構(gòu)成的圓柱形電容器俯視圖見圖2,電容器內(nèi)外極板的半徑分別為r1、r2,其內(nèi)含半徑為r0球形氣隙,且r0遠(yuǎn)小于電介質(zhì)厚度d,d=r2-r1,電容器長度為l。


  3.1電容
  設(shè)氣隙的等效電容為C0,其周圍介質(zhì)的等效電容為C1、C2、C3、C4,如前述2.1中的分析相同,內(nèi)含氣隙的圓柱形電容器的電容C也應(yīng)為(1)式。無氣隙時電容應(yīng)為[1]:
   (6)
  其中 為無氣隙時,圖1中C0、C3和C4區(qū)域的電容。同樣由電容器的串聯(lián)定律可知C < C′,即存在氣隙時電容將減小。


  3.2擊穿場強
  若電介質(zhì)內(nèi)無氣隙時,在電容器兩極間加電壓U,忽略邊緣效應(yīng),則距離圓柱中心軸線r處的電場強度為[1]:


   (7)
  上式說明電容器內(nèi)部不是均勻電場,r越小,E′ 越大,電容器內(nèi)極板附近的電場強度最大。
  當(dāng)電介質(zhì)內(nèi)存在球形氣隙時,由于氣隙半徑r0很小,可近似認(rèn)為氣隙所在位置的電場仍為均勻電場,則氣隙內(nèi)部的場強公式可由(5)式修改而得。將(5)式中的均勻電場E0由(7)式E′ 替換可得氣隙內(nèi)部場強為:


  (8)
  由于εr >1,則E > E′,即氣隙中的場強要大于相同半徑處介質(zhì)中的場強,同前述2.2中的分析結(jié)果相同,在電壓增大時,氣隙容易被首先擊穿,進而可能導(dǎo)致電容器損壞。


  4結(jié)束語


  由上述討論可知,當(dāng)電介質(zhì)中存在氣隙時將會導(dǎo)致電容器電容值降低,電容器抗擊穿能力下降,雖然電容值和擊穿場強并非越大越好,但氣隙的影響確實客觀存在,因此應(yīng)在電容器的設(shè)計和生產(chǎn)中考慮這一問題,留下足夠的寬裕度。
  
  

參考文獻

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